DIW를 사용하여 세정하는 장비 / Single Type / 2 ~ 8 Chambers / 6“, 8”, 12” Wafer 사용 가능 / Cleaning by Brushing
Chemical을 Mixing하여 공급하는 Chemical 공급 장비 / Chemical : BOE, DHF, IPA, SC-1, SPM etc.
Spin하는 Wafer에 Chemical를 사용하여 불순물 및 Metal 등 공정 진행 / Chemical : BOE, DHF, IPA , SC-1, SPM, ETC
LRD Dryer는 Marangoni 원리와 Spray 방식을 활용하여 건조 /효과적이고 안정적인 IPA 공급 /W/F C/T Point의 최소화 /고온 IPA 건조 공정 가능/ 광범위한 공정 적용 (AR>10, DR<20nm)
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